消息称三星平泽 P4 厂一期改为混合产线:每月可产 3~4 万片 DRAM 内存晶圆
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▲ 三星平泽园区
11 月 8 日消息,韩媒 ZDNET Korea 昨日报道称,三星电子内部已于三季度决定调整平泽 P4 制造综合体一期(Phase 1)的产能分配,从纯 NAND 调整为 NAND + DRAM。
这也可从该生产线的内部代号名称更改中看出来:该产线原名 P4F,尾部的 F 即指 Flash 闪存;而现名是 P4H,H 是 Hybrid 的简写,显示产线不只支持一个大类的半导体工艺。
平泽 P4 一期现已部分进驻 NAND 闪存生产设备,三星电子目前计划到年底将该产线 NAND 生产能力提升至每月 1 万片晶圆,不过由于市场的不确定性,到明年中才有可能为 V9 QLC NAND 等先进产品作进一步投资。
而在 DRAM 生产部分,平泽 P4 一期未来有望具备 3~4 万片晶圆的月产能,工艺方面则是引入三星目前最为先进的 1a、1b nm(注:即 14nm 级与 12nm 级),以应对竞争对手的产能扩张,并在三星内部其它 DRAM 产线工艺升级之时保证供应充足。
三星电子平泽 P4 制造综合体总共包含四期生产线,其中三期 DRAM 产线即将开建,二期 Foundry 代工产线则暂缓。